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真空蒸鍍法

2018-07-03

　真空蒸鍍是將裝有基片的真空室抽成真空，然后加熱被蒸發(fā)的鍍料，使其原子或分子從表面氣化逸出，形成蒸氣流，入射到基片表面，凝結(jié)形成固體薄膜的技術(shù)?！　「鶕?jù)蒸發(fā)源的...

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濺射鍍膜

2018-07-03

濺射鍍膜是指在真空室中，利用荷能粒子轟擊靶表面，使靶材的原子或分子從表面發(fā)射出來(lái)，進(jìn)而在基片上沉積的技術(shù)。在濺射鍍鈦的實(shí)驗(yàn)中，電子、離子或中性粒子均可作為轟擊靶...

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離子鍍

2018-07-03

離子鍍最早是由D.M.Mattox在1963年提出的。在真空條件下，利用氣體放電使氣體或蒸發(fā)物質(zhì)離化，在氣體離子或蒸發(fā)物質(zhì)離子轟擊作用的同時(shí)，把蒸發(fā)物質(zhì)或其反應(yīng)...

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