真空蒸鍍是將裝有基片的真空室抽成真空，然后加熱被蒸發(fā)的鍍料，使其原子或分子從表面氣化逸出，形成蒸氣流，入射到基片表面，凝結(jié)形成固體薄膜的技術(shù)。

　　根據(jù)蒸發(fā)源的不同可以將真空蒸鍍分為電阻加熱蒸發(fā)源、電子束蒸發(fā)源、高頻感應(yīng)蒸發(fā)源及激光束蒸發(fā)源蒸鍍法。

　　1、電阻蒸發(fā)源是用低電壓大電流加熱燈絲和蒸發(fā)舟，利用電流的焦耳熱是鍍料熔化、蒸發(fā)或升華。這種方式結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，造價(jià)低廉，使用相當(dāng)普遍。采用真空蒸鍍法在純棉織物表面制備負(fù)載TiO2織物，紫外線透過率都比未負(fù)載的純棉織物的低，具有好的抗紫外線性能，制備TiO2薄膜時(shí)，膜層較均勻，當(dāng)在玻璃表面蒸鍍一層鉻鈦、鎳鈦合金等裝飾薄膜，裝飾效果，光學(xué)、耐磨、耐蝕性能良好。

　　2、電子束蒸發(fā)源利用燈絲發(fā)射的熱電子，經(jīng)加速陽(yáng)極加速，獲得動(dòng)能轟擊處于陽(yáng)極的蒸發(fā)材料，是蒸發(fā)材料加熱氣化，實(shí)現(xiàn)蒸發(fā)鍍膜。這種技術(shù)相對(duì)于蒸發(fā)鍍膜，可以制作高熔點(diǎn)和高純的薄膜，是高真空鍍鈦膜技術(shù)中是一種新穎的蒸鍍材料的熱源。

　　3、高頻感應(yīng)蒸發(fā)源是利用蒸發(fā)材料在高頻電磁場(chǎng)的感應(yīng)下產(chǎn)生強(qiáng)大的渦流損失和磁滯損失，從而將鍍料金屬蒸發(fā)的蒸鍍技術(shù)。這種技術(shù)比電子束蒸發(fā)源蒸發(fā)速率更大，且蒸發(fā)源的溫度均勻穩(wěn)定。

　　4、激光束蒸發(fā)源蒸鍍技術(shù)是一種比較理想的薄膜制備方法，利用激光器發(fā)出高能量的激光束，經(jīng)聚焦照射到鍍料上，使之受熱氣化。激光器可置于真空室外，避免了蒸發(fā)器對(duì)鍍材的污染，使膜層更純潔。同時(shí)聚焦后的激光束功率很高，可使鍍料達(dá)到極高的溫度，從而蒸發(fā)任何高熔點(diǎn)的材料，甚至可以使某些合金和化合物瞬時(shí)蒸發(fā)，從而獲得成分均勻的薄膜。

　　真空蒸鍍法具有設(shè)備簡(jiǎn)單，節(jié)約金屬原材料，沉積Ti金屬及其氧化物、合金鍍層等，表面附著均勻，生產(chǎn)周期短，對(duì)環(huán)境友好，可大規(guī)模生產(chǎn)等突出優(yōu)點(diǎn)。