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真空鍍膜原理

2022-10-11

真空鍍膜原理:

  1. 物理氣相沉積(PVD)技術(shù)是指在真空條件下,通過(guò)各種物理方法將電鍍材料蒸發(fā)成原子、分子或電離成離子,并直接沉積在基板表面的方法。

    常熟真空鍍膜

2.化學(xué)氣相沉積(CVD)技術(shù)是一種向襯底提供簡(jiǎn)單氣體或含有薄膜元素的化合物的方法,通過(guò)襯底表面的氣相相互作用或化學(xué)反應(yīng)在襯底上制備金屬或化合物薄膜,主要包括常壓化學(xué)氣相淀積,常熟真空鍍膜具有CVD和PVD特性的低壓化學(xué)氣相沉積和等離子體化學(xué)氣相淀積。

真空鍍膜設(shè)備適用范圍:

1.建筑五金:浴室五金(如水龍頭)、門(mén)鎖、門(mén)把手、浴室、門(mén)鎖、五金鉸鏈、家具等。

2.鐘表制造業(yè):可用于表殼、表帶、水晶制品的涂層。

3.其他五金:皮革五金、不銹鋼餐具、眼鏡架、刀具、模具等。

4.大型工件:汽車(chē)輪轂、不銹鋼板、標(biāo)志牌、雕塑等。

5.不銹鋼管和不銹鋼板(各種表面類(lèi)型)。

6.家具、燈具、酒店用具。

7.鎖、把手、浴室五金、高爾夫球頭、不銹鋼餐具和血管等五金產(chǎn)品均涂有超硬裝飾膜。

8.手表、表帶、眼鏡、珠寶等飾品均涂有超耐磨裝飾(金、銀)納米膜、納米膜和納米復(fù)合膜。


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